FO 1000-Mesh-Schmirgelpulver D50: 9,4 ± 0,8 Mikron
Physikalische Eigenschaften und chemische Zusammensetzung von FO 1000-Mesh-Schmirgelpulver D50: 9,4 ± 0,8 Mikrometer
| Artikel | Größe | Spezifisches Gewicht | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 |
| FO-Schmirgelpulver | 1000 Mesh | ≥3,90 | ≥45,0 % | ≤20,0 % | ≤0,5 % | ≤2,0 % | ≤33,0 % |
Partikelgrößenverteilung (PSD) von FO 1000-Mesh-Schmirgelpulver D50: 9,4 ± 0,8 Mikrometer
| Größe | D0(um) | D3(um) | D50 (eins) | D94(um) |
| 1000 Mesh | ≤27,0 | ≤23,0 | 9,4 ± 0,8 | ≥5,0 |
FO-Schmirgelpulver Hauptanwendungen
–Schleifen und Polieren von Halbleiterwafern
Oberflächenveredelung verschiedener optischer Gläser
–Schleifen und Polieren von Linsen, Prismen, Spiegeln, Filtern usw. aus optischen Kristallen.
–Oberflächenveredelung von piezoelektrischen Materialien
Verpackung von FO-Schmirgelpulver
10 kg PVC-Säcke + Palette
